VGF PBNるつぼ、熱分解窒化ホウ素るつぼ

製品

VGF PBNるつぼ、熱分解窒化ホウ素るつぼ

簡単な説明:

垂直勾配凍結 (VGF) 技術は、化合物半導体業界でガリウムヒ素 (GaAs) やリン化インジウム (lnP) などの高品質基板用の結晶を成長させるための最も一般的な技術です。これらの結晶を成長させるために PBN るつぼを使用すると、最終結晶の純度が保証され、製品の性能が向上します。


製品の詳細

製品タグ

製品説明書

VGFは世界のGaAsおよびInP化合物半導体単結晶成長の主要技術です。
VGF PBN るつぼは、VGF による単結晶成長に理想的な容器であり、その材料の多結晶合成プロセスでも広く使用されています。

製品の特徴

高純度 (>99.999%)
溶融金属による濡れなし
制御可能な熱伝導率により、結晶収率が効果的に向上します
優れた耐熱衝撃性
簡単な洗浄と再利用性
化学的に不活性で、高温でも酸やアルカリと反応しません。

Boyu は、独自の仕様に基づいてあらゆるタイプの高品質 VGF PBN るつぼを製造する能力を備えています。以下のカタログには、当社が製造する VGF PBN るつぼの一部がリストされています。

カタログ番号 応用 内径 身長 厚さ
BV-2 VGF 2" 10" 0.035インチ
BV-3 VGF 3" 10" 0.035インチ
BV-4 VGF 4" 8インチ 0.035インチ
BV-5 VGF 5" 8インチ 0.04インチ
BV-6 VGF 6" 7" 0.04インチ
BV-8 VGF 8インチ 20" 0.08インチ

※このフォームは参考用です。他のサイズもカスタマイズ可能です。

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